ハタ　マサユキ   HATA Masayuki   畑　晶之    所属   松山大学  薬学部 医療薬学科    職種   准教授
発行・発表の年月	2004/01
形態種別	学術論文
標題	Adhesion Mechanism of Metal Impurities on Si Wafers in Alkali Solution.
執筆形態	共著
掲載誌名	J. Electrochem. Soc.
巻・号・頁	151,590-597頁
著者・共著者	T. Hoshino, M. Hata, S. Neya and H. Morinaga
概要	アルカリ溶液中において、シリコン表面にアルミニウム原子あるいは鉄原子が吸着する反応機構を量子化学計算により明らかにした。シリコン表面が水酸基で終端されていて、親水性の状態のときには吸着反応における最低エネルギー経路を得ることができた。また、シリコン表面に吸着したアルミニウムあるいは鉄原子が脱離する反応についても計算を行った。この反応では、水分子が界面におけるシリコン-酸素結合あるいは酸素—金属結合を攻撃する。