ハタ　マサユキ   HATA Masayuki   畑　晶之    所属   松山大学  薬学部 医療薬学科    職種   准教授
発行・発表の年月	2003/01
形態種別	学術論文
標題	Diffusion of Molecular and Atomic Oxygen in Silicon Oxide.
執筆形態	共著
掲載誌名	Jpn. J. Appl. Phys.
巻・号・頁	42,3560-3565頁
著者・共著者	T. Hoshino, M. Hata, S. Neya, Y. Nishioka, T. Watanabe, K. Tatsumura and I. Ohdomari
概要	二酸化シリコン中における酸素分子および酸素原子の拡散機構について密度汎関数法を用い、原子レベルで求めた。酸素原子が拡散するのに要する活性化エネルギーは1.3eVであった。これに対し、酸素分子の拡散は非常に小さく0.3eVであった。このことは、酸素の拡散は分子状で起こりやすいことを強く示唆している。この計算結果における構造は、クリストバライトや石英における二酸化シリコンの配置と一致していた。拡散の経路や活性化エネルギーは実験事実とよく一致するものであった。