ハタ　マサユキ   HATA Masayuki   畑　晶之    所属   松山大学  薬学部 医療薬学科    職種   准教授
発行・発表の年月	2000/01
形態種別	学術論文
標題	The Importance of OH groups Containing in Solid Films for High Sensitivity of Chemically Amplified Resists.
執筆形態	共著
掲載誌名	J. Photopolym. Sci. Technol.
巻・号・頁	13,503-506頁
著者・共著者	Y. Hirano, N. Ohmori, N. Okimoto, M. Hata, T. Hoshino and M. Tsuda
概要	化学増幅レジスト中において、光酸発生剤が水分子と反応する可能性について量子化学計算を行った。その結果、(1)反応する際、光酸発生剤と水酸基あるいは水分子が複合体を作り、自己組織化されていること、(2)プロトン化されたスルフォキサイドが生成する（酸発生剤が水分子と反応する）こと、(3)化学増幅レジスト中での光化学酸発生機構は、(i)酸発生剤の光化学分解反応、(ii)光化学分解反応による生成物とレジスト中のポリマーとが反応することで生じるプロトン発生反応の二段階反応であることがわかった。